Güterverzeichnis für Produktionsstatistiken, Ausgabe 2009

Klas­si­fi­ka­tions­struk­tur

2899 20 200 Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Halbleiterbarren (boules) oder Halbleiterscheiben (wafers)

Hauptgruppe: B (Investitionsgüterproduzenten)

Maßeinheit

St

Gegenüberstellung

gp2019a - gp2009
gp2019a Inhalt gp2009
Typ Schlüssel Titel Typ Schlüssel Titel
289920200 Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Halbleiterbarren (Boules) oder Halbleiterscheiben (Wafers) 2899 20 200 Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Halbleiterbarren (boules) oder Halbleiterscheiben (wafers)
gp2009v2012 - gp2009
gp2009v2012 Inhalt gp2009
Typ Schlüssel Titel Typ Schlüssel Titel
2899 20 200 Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Halbleiterbarren (boules) oder Halbleiterscheiben (wafers) 2899 20 200 Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Halbleiterbarren (boules) oder Halbleiterscheiben (wafers)
gp2009 - gp2002
gp2009 Inhalt gp2002
Typ Schlüssel Titel Typ Schlüssel Titel
2899 20 200 Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Halbleiterbarren (boules) oder Halbleiterscheiben (wafers) ex 2956 25 979 Andere Maschinen, Apparate und Geräte für zivile Zwecke
gp2009 - wz2008
gp2009 Inhalt wz2008
Typ Schlüssel Titel Typ Schlüssel Titel
2899 20 200 Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Halbleiterbarren (boules) oder Halbleiterscheiben (wafers) ex 28.99.0 Herstellung von Maschinen für sonstige bestimmte Wirtschaftszweige a. n. g.

Stichwörter

  • APPARAT ZUM REINIGEN VON HALBLEITERSCHEIBEN
  • APPARATE ZUM REINIGEN VON WAFERN
  • APPARATE Z AUFBRINGEN V EPITAXIESCHICHTEN AUF WAFERS
  • APPARATE ZUM HERSTELLEN VON HALBLEITER-EINKRISTALLBARREN
  • Apparate, zum Herstellen von Halbleiter-Einkristallbarren
  • Apparate, zum Nassätzen, Entwickeln, Ablösen und Reinigen von Wafern
  • Apparate, zum physikalischen Beschichten von Halbleiterscheiben durch Kathodenzerstäubung
  • BREAK EQUIPMENT ZUM BRECHEN VON SILIZIUMWAFERN
  • BRECHER FÜR SILIZIUMWAFER
  • CENTURA HAT EPITAXIE-SYSTEM THERMISCHE PROZESSGAS-SPALTREAKTION
  • CHEMIETISCH GERÄTE ZUM OXID-ABLOESEN UND REINIGEN VON WAFERN
  • CVD ZUM ERZEUGEN VON DUENNEN SCHICHTEN AUF WAFERN
  • CVD-PROZESSKAMMER ZUM BESCHICHTEN VON WAFERN MIT WOLFRAM
  • CVD-SYSTEM ZUM ERZEUGEN DUENNER SCHICHTEN AUS HALBLEITER-SUBSTRAT
  • CVD-SYSTEM ZUM ERZEUGEN DUENNER SCHICHTEN AUS HALBLEITER-SUBSTRAT
  • DIFFUSIONSOEFEN ELEKTRISCH BEHEIZT F OXIDATIONS A HL-S
  • DIFFUSIONSOEFEN FÜR DOSIERSTOFFDUFFUNDIERUNG AUF WAFER
  • DOUBLE SIDED WAFER SCRUBBER
  • DOUBLE-SIDE SCRUBBER GERÄT ZUM REINIGEN VON WAFERN DURCH BUERSTEN
  • DOUBLE-SIDE SCRUBBER GERÄT ZUM REINIGEN VON WAFERN
  • ENDURA 5500 PVD SYSTEM ZUM BESCHICHtEN VON WAFERN DURCH SPUTTERN
  • EPITAXIAL REACTOR SYSTEMS FÜR DIE WAFERBESCHICHTUNG
  • EPITAXIERANLAGE FÜR WAFER
  • GERAET ZUM FENSTER-AETZEN UND REINIGEN VON WAFERN
  • GERAET ZUM REINIGEN VON WAFERN DURCH MECHANISCHE BUERSTEN
  • GERAET ZUM TRIMMEN VON HALBLEITERBAUELEMENTEN
  • GERAET ZUR PSG-ABLOESUNG UND REINIGEN VON WAFERN HL-SCHEIBEN
  • GERAET ZUR BESCHRIFTUNG VON HALBLEITERN DURCH LASERSTRAHL
  • GERAETE ZUM BOTTOM-AETZEN UND REINIGEN VON WAFERN
  • GERAETE ZUM NASSAETZEN MIT HN03 UND REINIGEN VON WAFERN
  • GERÄT ZUM AUSRICHTEN BIEGEN VON VERBOGENEN METALLANSCHLÜSSEN AUF A WAFERN
  • GRINDING MASCHINE FÜR SCHLEIFARBEIT AN HALBLEITERSCHEIBEN
  • HALBLEITERSCHEIBEN-AETZGERÄTE ZUM REINIGEN/ABAETZEN VON WAFERN
  • HOTPLATE F KURZZEITERWAERMUNG VON HALBLEITERSCHEIB/WAFERN
  • HYPERCLEAN WAFER CLEANING SYSTEM ZUM REINIGEN
  • INDUNKTIONS-OFEN ZUM HERSTELLEN VON SCHALTKREISEN AUF HL-SCHEIBEN
  • INDUSTRIEOFEN WOLFRAM-HALOGEN-BEHEIZt ZUM HERSTELLEN VON HALBLEITERSCHEIBEN
  • INFRAROTOFEN ZUM HERSTELLEN VON SCHALTKREISEN AUF HL-SCHEIBEN
  • KATHODENZERSTAEUBUNGSANLAGEN ZUR HALBLEITERFERTIGUNG
  • LASER WAFER MARKIERGERÄTE ZUM BESCHRIFTEN VON HL-SCHEIBEN
  • LASER-MARKIERSYSTEME VON HALBLEITER-CHIPS IN WAFER-FORM
  • LASER-REP-SYSTEM(AUSBEUTENVERGROESSERG) WAFERS
  • Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Halbleiterbarren (boules) oder Halbleiterscheiben (wafers)
  • PLASMAAETZKAMMER FÜR BEARBEITEN VON WAFERN DURCH PLASMAAETZEN
  • RITZAUTOMATEN/GERAETE FÜR HALBLEITERWAFER
  • SCHLEIF- UND POLIERMASCHINEN FÜR WAFER ZUM HERSTELLEN VON HALBLEITER-SCHEIBEN
  • SCHLEIFMASCHINEN FÜR HALBLEITER-WAFERS
  • SILIZIUM KRISTALLZIEHANLAGEN ZUM HERSTEN VON HL-BARREN/BOULES
  • SPIN COATER ZUM AUFTRAGEN VON PHOTOLACK AUF WAFERN
  • SPIN DEVELOPER ZUM AUFTRAGEN VON PHOTOGRAPHISCHER ENTWICKFLERFLÜSSIGKEIT A WAFERN
  • SPUTTER GERAETESYSTEME ZUM BESCHICHTEN VOLN WAFER-SUBSTRATEN
  • SPUTTERSYSTEME FÜR ATOMENBEAUFSCHLAGUNG AUF WAFERN
  • ULTRASCHALLWERKZEUGMASCHINEN FÜR HL-BAUELEMENTE
  • VERTIKAL LP-CVD AUFDAMPFSYSTEM VON HALBLEITER-SUBSTRATEN
  • WAFER MOUNTER ZUR SIMULTANEN AUFBRINGEN EINES WAFERS
  • WAFER-SCHLEIFMASCHINE ZUM HERSTELLEN VON HALBLEITERSCHEIBEN
  • WAFERBESCHICHTUNGSSYSTEME DURCH SPUTTERN
  • WAFEROBERFLAECHENBESCHICHTUNGSGERAETE CVD

Langtitel

Maschinen, Apparate und Geräte zum Herstellen von Halbleiterbarren (boules) oder Halbleiterscheiben (wafers)

Ebene

Ebene 8: Güterart